中国最先进的光刻机(清华自主光刻机有望解决卡脖子核心难题)

1. 中国最先进的光刻机，清华自主光刻机有望解决卡脖子核心难题？

首先，澄清一点，清华并没有自主研发光刻机。只是报告了一种新型粒子加速器光源 “稳态微聚束”（SSMB）的首个原理验证实验。清华物理学教授唐传祥表示，基于SSMB的EUV光源有望解决自主研发光刻机中最核心的卡脖子难题。其次，SSMB技术适用于EUV光刻机的光源系统，这就为国产EUV光刻机需要的光源提供了技术支撑。最后，回到题主的问题，最受益的自然是研发光刻机的单位。下面详细了解一下。

1、SSMB原理是什么？

根据清华大学工程物理系唐传祥研究组与合作团队在《自然》上发表的研究论文《稳态微聚束原理的实验演示》中可以看到。SSMB工作原理就是利用一定波长的激光操控位于储存环MLS内的电子束，使电子束绕环一整圈后形成精细的微结构，也即微聚束。然后，微聚束在激光波长及其高次谐波上辐射出高强度的窄带宽相干光。

原理听起来很简单，但过程却不简单。首先需要将电子束送入一个环形加速器。而电子在这个环形加速器中运行时，加速器的磁场会让电子在改变运动方向的同时，释放同步辐射。而这个辐射会因为衰减而产生辐射阻尼。辐射阻尼会使电子振幅越来越小，这就让电子束流的尺寸也变得原来越小。这个缩小的电子束流就是微聚束。微聚束的波长在激光波长范围时，就会辐射出高强度的窄带宽相关光。

2、SSMB能为EUV光刻机做什么？

在芯片制造领域，大家都知道光刻机是不可缺少的高精密核心装备，芯片的制程工艺和光刻机的曝光分辨率有很大关系，而光刻机的曝光分辨率又和光源的波长息息相关。50多年来，光刻机企业都在不断缩小光刻机光源的波长，现在ASML最先进的EUV光刻机采用的是13.5nm的极紫外光。它采用的是高能脉冲激光轰击液态锡靶，形成等离子体然后产生波长13.5纳米的EUV光源，功率约250瓦。

众所周知，5nm及以下的芯片必须要极紫外光的EUV光刻机才能完成。现在唐传祥研究组研发的SSMB技术，可以通过稳态微聚束的电子流可以激发窄带宽相关光。这个光源的波长可覆盖从太赫兹到极紫外EUV波段。也就是说，它有可能成为EUV光刻机光源的新技术。

同时，基于SSMB技术的光源，拥有高功率、高重频、窄带宽的特点。而这些特点也正是EUV光刻机希望提升的地方。EUV光刻机光源的功率越高，芯片刻录速度就越快。光源波长越短，芯片工艺的纳米数可以做到越小。所以，SSMB可以为国产EUV光刻机垫定技术基础，为解决卡脖子问题又迈进了一步。但要真正获得成功，还需要上下游产业链的配合。

3、受益单位

既然SSMB的技术原理主要利好光刻机的光源，受益单位自然也就这些生产光刻机的企业。以下这些企业都是中国生产光刻机相关的企业。

英唐智控：公司2012年收购深圳青岛光电有限公司100%股权，2020年度完成了对日本先锋微技术100%股权的收购事项，先锋微技术自有的生产设备中包含有日本产的光刻机设备，主要用于模拟芯片的制造。奥普光电：公司产品可以用于光刻机的光学系统中，公司是长春光机所控股下的唯一上市公司平台，90nm光刻机曝光系统是长春光机所联合其他单位在国家专项资金的支持下开展的研发项目。苏大维格：自主研发制造的激光直写光刻设备。张江高科：参股公司上海微电子是国内光刻机研发制造领先企业。上海微电子装备有限公司：主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。是国产光刻机的“一哥”，它计划在2021年交付第一台国产28nm光刻机。

虽然SSMB有利于这些企业，但是还需要时间将技术转化生产力。

总结

这次清华大学工程物理系唐传祥研究组发布的SSMB技术，是EUV光刻机领域的一个重大突破。为国产EUV光刻机垫定了技术基础，也为将来不被卡脖子扫平了一个障碍。

2. 中国7nm光刻机自主了吗？

没有自主。

国产7nm的光刻机还没有研制成功的，能够制造7纳米芯片的光刻机就是极紫外光刻机，目前能够制造极紫外光刻机的只有一家，就是荷兰的阿斯麦公司，而且阿斯麦公司也只是一个组装公司，极紫外光刻机是一个庞大的工程，它的零件都是全球最顶尖的科技，比如美国的光源，德国的镜头，法国机械臂，英国的电动马达，都是要求非常精密的，难度很大，所以我国还没研制出来。

3. 广西光刻机质量怎么样？

广西貌似没有光刻机，我也希望广西有这么高科技设备的生产能力，目前中国最先进的光刻机是中芯国际28纳米的光刻机，世界上最先进的光刻机是ASML公司生产的3纳米光刻机，我们中国在光刻机和芯片领域长期以来受限于人，所以不管是广西还是其他地方，乃至全国，我们都必须突破高科技核心的技术，早日实现中国梦

4. 麒麟芯片光刻机哪里来的？

麒麟芯片光刻机是由华为公司自主研发和生产的。华为作为全球领先的通信技术解决方案供应商，拥有强大的研发实力和先进的制造能力。麒麟芯片光刻机是用于制造麒麟芯片的关键设备，它采用了最先进的光刻技术，能够实现高精度的芯片制造。华为在芯片领域投入了大量资源和人力，致力于提升自主创新能力，麒麟芯片光刻机的研发和生产正是华为在芯片制造领域的重要成果之一。

5. 上海产光刻机质量好吗？

质量好，光刻机是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种：有用于生产芯片的光刻机；有用于封装的光刻机；还有用于LED制造领域的投影光刻机。用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板。

光刻机被称为“人类最精密复杂的机器”，该领域的龙头老大是荷兰ASML，并已经垄断了高端光刻机市场。荷兰ASML公司EUV光刻机售价高达1亿美元，而且只有ASML能够生产。

相比之下，中国最好的光刻机厂商上海微电子装备有限公司（SMEE）已经量产的光刻机中，性能最好的SSA600/20工艺只能达到90nm，相当于2004年上市的奔腾四CPU的水准。而国外的先进水平已经达到了7纳米，正因如此，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。

6. 上海微电子已经成功生产光刻机了么？

全球半导体前道光刻机长期由ASML、佳能、尼康三家公司所垄断，三家公司占据了99%的市场份额。ASML市场份额常年高达60%以上，呈现霸主垄断地位，ASML已经完全地垄断了超高端光刻机领域，而佳能则完全退出高端市场，凭借价格优势盘踞在中低端市场。

上海微电子（SMEE）成立于2002年，其主产品SSX600系列步进扫描投影光刻机满足90nm、110nm、280nm芯片前道光刻工艺的要求，可以用于8英尺、12英尺大规模工业生产。毫无疑问上海微电子早已经能够生产光刻机，相比较于1984年4月成立的ASML，上海微电子疑问是芯片制造光刻机领域的后起之秀，经过20余年的发展逐渐缩小了和光刻巨头之间的差距，上海微电子在全球后道封测光刻机领域高达40%的占有率。

上海微电在前道光刻机领域仅能提供低端光刻机光刻原理其实特别简单，就跟我们在沙滩上晒太阳一样，光线能直接照射到的地方皮肤就会呈现黝黑的颜色，而被遮挡的地方皮肤就会呈现白皙的颜色。早期的光刻机其实和照相机显影技术并无二致，所以也就能理解为什么做照相机的佳能和尼康为什么会闯入光刻机领域。

基于光刻机的原理很简单，早期的芯片工艺制程水平也并不高，所以我国大致是在1965年前后拥有光刻机。1445所在1977年就研制成功了一台接触式光刻机GK-3。接触式光刻就是直接将掩膜直接贴到硅片上用灯光照射，这种工艺最难的地方在于要在底片上刻出1微米分辨率的线条，而光照并不是太大的难题。这么说想必大家要翘尾巴了，要知道西方在1978年就已经推出了成熟的分布投影光刻机了。拜读过《朱煜：精密事业》就知道我们的半导体工业为什么会落后别人一大截，国情使然，这里就不再大篇幅陈述。

如今的半导体产业已经成为了一个全球性的巨大产业链条，我们已经完全有能力生产7nm甚至更低nm的芯片，关键在于我们的材料和设备受制于人，高端光刻设备对于光学技术和供应链要求极高，拥有极高的技术壁垒，是全球产业链整合出来的产品，比如ASML光刻机的光源来自美国、镜头来自德国、阀件来自法国，这些不是有钱就能买得到的，因为欧美国家对我们实施了技术封锁。

光刻机的市场需求并不高ASML的EUV光刻机拥有10万个主要部件，镜子都需要数月才能打磨到理想的平滑度，运输是需要41辆超大型卡车，所以ASML每年仅能生产百来台，所以也就能理解尼康和佳能逐渐势弱。

光刻机不开张则已，一开张就能吃好几年。ASML在研发费用方面长期处于行业领先地位，研发费用占到了总销售额的20%左右。ASML也拥有大量的现金，所以研发并不会受到经济周期的影响。

这些都得益于ASML独特的公司股权架构，只有注资ASML公司成为股东之一才能够获得优先供货权，毫无疑问英特尔、三星、台积电都是ASML的股东，如今的ASML已经成为不折不扣的美系资金企业。

上海微电子也并没有那么悲观鲲鹏有鲲鹏的活法，蚍蜉有蚍蜉的活法。当国外巨头都在耻笑上海微电子有近二十年的代差，几十上百年都很难追上，谁又规定了蚍蜉不能一路打怪升级呢？当一种技术封锁上升到国家层面时，举国之力发展半导体产业自有生态离成功并非难事，日本、韩国的半导体产业就是这样发展起来的。

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7. 中国有4nm光刻机吗？

目前，中国暂时没有4nm光刻机。但5nm的光刻机生产研发已取得突破性的进展。不久的将来，我国的光刻机技术会得到更好的发展，不仅能生产出4nm芯片，还能生产出更高精度的芯片。科技造就未来，我国用科技提高自身综合实力，打破外国垄断指日可待。芯片和光刻机的共同发展，才能造就更加精彩的科技生活，智能化时代就在不远的未来。